那諾-馬斯特中國有限公司

NA-MASTER (那诺-马斯特) NIE系列 离子束刻蚀系统

NA MASTER(那诺-马斯特)提供离子束刻蚀和反应离子束刻蚀，可以应用于表面清洗、表面处理、离子束研墨、光栅刻蚀，以及SiO2，Si及金属的深槽反应离子束刻蚀。型号包含NIE-3000，NIE-3500，... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NSC系列 磁控溅射系统

NA MASTER(那诺-马斯特)提供应用的全自动磁控溅射系统，可用于电镜样品制备，也可以选择DC和RF溅射，用于沉积金属、氧化物和氮化物。主要型号包含NSC-1000，NSC-3000，NSC-3500，NSC-... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NEE系列 电子束蒸发系统

NA MASTER(那诺-马斯特)的NEE-4000是全自动电子束蒸发系统，双腔配置支持样平台所在的主腔体跟电子束源所在的二级腔体的真空分开控制，使得主腔体在放取片时二级腔体仍然保持真空状态，大... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) 兆声晶圆清洗/刻蚀系统

NA MASTER(那诺-马斯特)的兆声处理设备，主要包含SWC单晶圆/掩模版清洗系列和LSC大基片清洗系列，支持湿法清洗/去胶/刻蚀应用。型号包含SWC-3000，SWC-4000，SWC-5000，LSC-4000，LSC-5000。 ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NTE系列 热蒸镀系统

NA MASTER(那诺-马斯特)提供的双蒸发源系统支持标准坩埚，用于和金属材料的热蒸发。设计充分考虑清洁、均匀度、可控性、可重复性、小占地面积，持续性控制加热器电流。型号包含NTE-30... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) RIE反应离子刻蚀系统

NA MASTER(那诺-马斯特)提供的全自动RIE系统用于刻蚀氧化物、氮化物和金属，可以根据需要配置ICP实现快速深刻，DRIE系统可用于深硅刻蚀。主要型号包含NRE-3000，NRE-3500，NRE-4000，NDR-... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NPE系列 PECVD系统

NA MASTER(那诺-马斯特)的PECVD系统可用于氧化物和氮化物的沉积，可以通过不同配置实现沉积，或控制氮化物薄膜应力，或支持CNT和石墨烯生长。主要型号包含NPE-3000，NPE-3500，和NPE-... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NPC系列 等离子清洗/去胶系统

NA MASTER(那诺-马斯特)的等离子灰化和清洗系统可用于单晶圆处理或批处理，清洗、刻蚀、改性、去胶等各种功能。各向同性PE和各向异性RIE两种刻蚀并存，并可编程实现自动切换，型号包含NPC... ...

NA-MASTER (那诺-马斯特) NLD系列 ALD原子层沉积系统

NA MASTER(那诺-马斯特)提供的ALD系统可沉积陷的薄膜，是高介电常数材料的理想选择，主要型号包含NLD-3500，NLD-4000。此外，我们可以提供的等离子增强ALD的产线解决方案。 ...